他们虽然对徐浩的能力和在光刻机领域的理论体系的掌握是十分肯定的。
但是他们即使是对光刻机没有太多的设计。
但是也清楚光刻机的理论知识和研制高精度芯片的过程有关系，但是也有不同的地方。
因此他们也不敢妄自下定论，认为徐浩所提供的方案就一定具有可实施性。
不过他们更清楚的是。
眼下除了徐浩所提供的这种方案之外。
他们别无选择。
而关于这次的光刻机项目是否最终能够研制出他们预期之中的高精度的芯片。
也是关系到龙国的未来发展和各方各面。
虽然这些龙国高层和权威专家学者并不怕失败。
但是这毕竟是节骨眼上的事。
这也不得不让他们慎重和忐忑。
徐浩的讲解仍在继续。
但是现在他每说出下一个步骤。
都是在再三思考之后认为万无一失之下才会说出口的。
“将光刻胶涂覆，在晶圆上涂覆光敏材料“光刻胶”或“光阻”，作为后续光刻过程的模板。”
“利用光刻机将芯片上的电路图形投影到光刻胶层上，形成图形模板。”
“光束通过掩模版投射到晶圆上，光刻胶在光束的照射下发生化学反应，形成电路图案。”
“将光刻胶层中未被遮住的部分进行蚀刻，去除不需要的材料，形成电路线路。刻蚀分为干式刻蚀和湿式刻蚀两种。”
“一种是通过离子注入设备将特定元素的离子注入到晶圆中，改变其电学性质，以满足电路的需求。”
“一种是将制造完成的芯片进行封装，以保护其免受外界环境的影响，并便于后续的测试和应用。“”
……
时间飞速的流逝着。
在徐浩的方案下。
这些
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